Titan rohr Ziel
- PRODUCT DETAIL
Reinheit
Reinheit ist einer der wichtigsten Leistungsindikatoren für Titan-Targets, da die Reinheit des Titan-Targets einen großen Einfluss auf die Leistung des Films hat. In praktischen Anwendungen sind die Reinheitsanforderungen für Titanziele jedoch nicht die gleichen. Zum Beispiel sind mit der schnellen Entwicklung der Mikroelektronikindustrie die Siliziumwafergrößen von 6 ", 8" auf 12 "gewachsen, und die Verdrahtungsbreite wurde von 0,5 μm auf 0,25 μm, 0,18 μm oder sogar 0,13 μm verringert. Die Reinheit von 99,995% des Titan-Targets kann die 0,35-μm-Prozessanforderungen erfüllen, und die Reinheit der 0,18-μm-Linie für das Titan-Target erfordert 99,999% oder sogar 99,9999%.
Verunreinigungsgehalt
Verunreinigungen in den Titantarget-Feststoffen und Sauerstoff und Feuchtigkeit in den Poren sind die Hauptquellen der Verunreinigung des abgeschiedenen Films. Titan-Targets mit unterschiedlichen Anwendungen haben unterschiedliche Anforderungen an den Gehalt an verschiedenen Verunreinigungen. Zum Beispiel haben Titan-Targets aus reinem Aluminium und Aluminiumlegierung, die in der Halbleiterindustrie verwendet werden, spezielle Anforderungen an den Alkalimetallgehalt und den Gehalt an radioaktivem Element.
Dichte
Um die Porosität in den Titantarget-Feststoffen zu verringern und die Leistung des gesputterten Films zu verbessern, müssen Titan-Targets im Allgemeinen eine höhere Dichte aufweisen. Die Dichte des Titan-Targets beeinflusst nicht nur die Sputterrate, sondern beeinflusst auch die elektrischen und optischen Eigenschaften des Films. Je höher die Titantargetdichte ist, desto besser ist die Filmleistung. Zusätzlich ermöglicht die Erhöhung der Dichte und der Festigkeit des Titantargets, dass das Titantarget Wärmespannungen während des Sputterprozesses besser widersteht. Die Dichte ist auch einer der wichtigsten Leistungsindikatoren für Titan-Targets.
Korngröße und Korngrößenverteilung
Üblicherweise ist das Titan-Target eine polykristalline Struktur, und die Korngröße kann von Mikrometern bis zu Millimetern reichen. Für die gleiche Art von Titan-Target hat das feinkörnige Target eine höhere Sputterrate als das grobkörnige Target. Für das Target-Sputtern mit einem kleinen Unterschied in der Korngröße (gleichförmige Verteilung) ist die Dickenverteilung des abgeschiedenen Films gleichmäßiger.
W-Ti Ziel
Die Dimensionen sind:
Rechteckiges Ziel: L800mm × W200mm × H Optionale Dicke des Kunden. (Maximale Größe von ähnlichen Produkten in der Welt)
Rundes Ziel: 4460mm × H Optionale Stärke des Kunden (maximale Größe der internationalen ähnlichen Produkte)
Dichte ≥ 99,9% TD,
Reinheit ≥ 99,995%
Die oben genannten drei Indikatoren sind das höchste Niveau der inländischen Produkte, das internationale fortgeschrittene Niveau
Anwendung
Wolfram-Titan (W-Ti) -Filme und Wolfram-Titan (W-Ti) -basierte Legierungsfilme sind Superlegierungsfilme mit einer Reihe von unersetzbaren hervorragenden Eigenschaften. Wolfram hat Eigenschaften wie einen hohen Schmelzpunkt, eine hohe Festigkeit und einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten. W / Ti-Legierungen haben einen geringen spezifischen Widerstand, eine gute thermische Stabilität und Oxidationsbeständigkeit. Zum Beispiel wurden Al, Cu und Ag für verschiedene Vorrichtungen, die eine leitende Metallverdrahtung erfordern, weitverbreitet verwendet und erforscht. Das Verdrahtungsmetall selbst wird jedoch leicht oxidiert, reagiert leicht mit der umgebenden Umgebung, hat eine schlechte Haftung an der dielektrischen Schicht und diffundiert leicht in Substratmaterialien wie Si und SiO & sub2 ;. Bei niedrigeren Temperaturen werden Verbindungen von Metall und Si gebildet, die als Verunreinigungen wirken, was die Leistungsfähigkeit der Vorrichtung stark verschlechtert. Die W-Ti-Legierung wird aufgrund ihrer stabilen thermomechanischen Eigenschaften, ihrer geringen Elektronenbeweglichkeit, ihrer hohen Korrosionsbeständigkeit und chemischen Stabilität leicht als Verdrahtungsdiffusionsbarriere verwendet und eignet sich besonders für den Einsatz in Umgebungen mit hohen Strömen und Temperaturen.
Aussichten
Wolfram-Titan-Targets wurden kürzlich als Beschichtungsmaterialien für photovoltaische Zellen entwickelt. Es ist die beste Wahl für Solarzellenbarrieren der dritten Generation.
Aufgrund der hervorragenden Leistung von Dünnfilmen der W-Ti-Serie hat das Auftragsvolumen in den letzten Jahren dramatisch zugenommen. Im Jahr 2008 hat die weltweite Verwendung von W-Ti-Target 400 t erreicht. Mit der Entwicklung der Photovoltaikindustrie wird die Nachfrage nach solchen Zielen steigen. Je größer. Die Branche geht davon aus, dass ihre Nutzung stark zunehmen wird. Der internationale Solarzellenmarkt ist um 100% gewachsen. Derzeit sind mehr als 30 Unternehmen weltweit an der Weiterentwicklung des Solarmarktes beteiligt und bestehende Unternehmensprodukte werden auf den Markt gebracht. Das von China entwickelte übergroße, hochdichte, hochreine W-Ti-Target ist ein neuer Typ von Ionensputter-Targetmaterial. Kann weit verbreitet in der Anzeige der Barriereschicht oder Tonerschicht, die dekorative Schicht von Notebook-Computern, Batterieverpackung, Solar (Photovoltaik) Batterie Barriere verwendet werden, hat eine sehr gute Marktaussichten und wirtschaftliche Vorteile. Auf der anderen Seite kann es auch die Aufwertung von Wolframprodukten in China fördern und eine höhere Wertschöpfung erzielen.
Reinheit ist einer der wichtigsten Leistungsindikatoren für Titan-Targets, da die Reinheit des Titan-Targets einen großen Einfluss auf die Leistung des Films hat. In praktischen Anwendungen sind die Reinheitsanforderungen für Titanziele jedoch nicht die gleichen. Zum Beispiel sind mit der schnellen Entwicklung der Mikroelektronikindustrie die Siliziumwafergrößen von 6 ", 8" auf 12 "gewachsen, und die Verdrahtungsbreite wurde von 0,5 μm auf 0,25 μm, 0,18 μm oder sogar 0,13 μm verringert. Die Reinheit von 99,995% des Titan-Targets kann die 0,35-μm-Prozessanforderungen erfüllen, und die Reinheit der 0,18-μm-Linie für das Titan-Target erfordert 99,999% oder sogar 99,9999%.
Verunreinigungsgehalt
Verunreinigungen in den Titantarget-Feststoffen und Sauerstoff und Feuchtigkeit in den Poren sind die Hauptquellen der Verunreinigung des abgeschiedenen Films. Titan-Targets mit unterschiedlichen Anwendungen haben unterschiedliche Anforderungen an den Gehalt an verschiedenen Verunreinigungen. Zum Beispiel haben Titan-Targets aus reinem Aluminium und Aluminiumlegierung, die in der Halbleiterindustrie verwendet werden, spezielle Anforderungen an den Alkalimetallgehalt und den Gehalt an radioaktivem Element.
Dichte
Um die Porosität in den Titantarget-Feststoffen zu verringern und die Leistung des gesputterten Films zu verbessern, müssen Titan-Targets im Allgemeinen eine höhere Dichte aufweisen. Die Dichte des Titan-Targets beeinflusst nicht nur die Sputterrate, sondern beeinflusst auch die elektrischen und optischen Eigenschaften des Films. Je höher die Titantargetdichte ist, desto besser ist die Filmleistung. Zusätzlich ermöglicht die Erhöhung der Dichte und der Festigkeit des Titantargets, dass das Titantarget Wärmespannungen während des Sputterprozesses besser widersteht. Die Dichte ist auch einer der wichtigsten Leistungsindikatoren für Titan-Targets.
Korngröße und Korngrößenverteilung
Üblicherweise ist das Titan-Target eine polykristalline Struktur, und die Korngröße kann von Mikrometern bis zu Millimetern reichen. Für die gleiche Art von Titan-Target hat das feinkörnige Target eine höhere Sputterrate als das grobkörnige Target. Für das Target-Sputtern mit einem kleinen Unterschied in der Korngröße (gleichförmige Verteilung) ist die Dickenverteilung des abgeschiedenen Films gleichmäßiger.
W-Ti Ziel
Die Dimensionen sind:
Rechteckiges Ziel: L800mm × W200mm × H Optionale Dicke des Kunden. (Maximale Größe von ähnlichen Produkten in der Welt)
Rundes Ziel: 4460mm × H Optionale Stärke des Kunden (maximale Größe der internationalen ähnlichen Produkte)
Dichte ≥ 99,9% TD,
Reinheit ≥ 99,995%
Die oben genannten drei Indikatoren sind das höchste Niveau der inländischen Produkte, das internationale fortgeschrittene Niveau
Anwendung
Wolfram-Titan (W-Ti) -Filme und Wolfram-Titan (W-Ti) -basierte Legierungsfilme sind Superlegierungsfilme mit einer Reihe von unersetzbaren hervorragenden Eigenschaften. Wolfram hat Eigenschaften wie einen hohen Schmelzpunkt, eine hohe Festigkeit und einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten. W / Ti-Legierungen haben einen geringen spezifischen Widerstand, eine gute thermische Stabilität und Oxidationsbeständigkeit. Zum Beispiel wurden Al, Cu und Ag für verschiedene Vorrichtungen, die eine leitende Metallverdrahtung erfordern, weitverbreitet verwendet und erforscht. Das Verdrahtungsmetall selbst wird jedoch leicht oxidiert, reagiert leicht mit der umgebenden Umgebung, hat eine schlechte Haftung an der dielektrischen Schicht und diffundiert leicht in Substratmaterialien wie Si und SiO & sub2 ;. Bei niedrigeren Temperaturen werden Verbindungen von Metall und Si gebildet, die als Verunreinigungen wirken, was die Leistungsfähigkeit der Vorrichtung stark verschlechtert. Die W-Ti-Legierung wird aufgrund ihrer stabilen thermomechanischen Eigenschaften, ihrer geringen Elektronenbeweglichkeit, ihrer hohen Korrosionsbeständigkeit und chemischen Stabilität leicht als Verdrahtungsdiffusionsbarriere verwendet und eignet sich besonders für den Einsatz in Umgebungen mit hohen Strömen und Temperaturen.
Aussichten
Wolfram-Titan-Targets wurden kürzlich als Beschichtungsmaterialien für photovoltaische Zellen entwickelt. Es ist die beste Wahl für Solarzellenbarrieren der dritten Generation.
Aufgrund der hervorragenden Leistung von Dünnfilmen der W-Ti-Serie hat das Auftragsvolumen in den letzten Jahren dramatisch zugenommen. Im Jahr 2008 hat die weltweite Verwendung von W-Ti-Target 400 t erreicht. Mit der Entwicklung der Photovoltaikindustrie wird die Nachfrage nach solchen Zielen steigen. Je größer. Die Branche geht davon aus, dass ihre Nutzung stark zunehmen wird. Der internationale Solarzellenmarkt ist um 100% gewachsen. Derzeit sind mehr als 30 Unternehmen weltweit an der Weiterentwicklung des Solarmarktes beteiligt und bestehende Unternehmensprodukte werden auf den Markt gebracht. Das von China entwickelte übergroße, hochdichte, hochreine W-Ti-Target ist ein neuer Typ von Ionensputter-Targetmaterial. Kann weit verbreitet in der Anzeige der Barriereschicht oder Tonerschicht, die dekorative Schicht von Notebook-Computern, Batterieverpackung, Solar (Photovoltaik) Batterie Barriere verwendet werden, hat eine sehr gute Marktaussichten und wirtschaftliche Vorteile. Auf der anderen Seite kann es auch die Aufwertung von Wolframprodukten in China fördern und eine höhere Wertschöpfung erzielen.
